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Plasma Charging Damage Kin P. Cheung Softcover reprint of the original 1st ed. 2001 edition
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Plasma Charging Damage
Kin P. Cheung
In the 50 years since the invention of transistor, silicon integrated circuit (IC) technology has made astonishing advances. In state of the art silicon Ie manufacturing process, plasma is used in more than 20 different critical steps.
364 pages, biography
| 介质类型 | 图书 Paperback Book (平装胶订图书) |
| 已发行 | 2012年8月30日 |
| ISBN13 | 9781447110620 |
| 出版商 | Springer London Ltd |
| 页数 | 346 |
| 商品尺寸 | 157 × 234 × 19 mm · 522 g |
| 语言 | 英语 |