Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies - Mohamed Elgamel - 图书 - Springer-Verlag New York Inc. - 9781441938442 - 2010年10月29日
如封面与标题不符，以标题为准

Mohamed Elgamel
Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies 1st Ed. Softcover of Orig. Ed. 2006 edition

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其他版本：

Presents a range of CAD algorithms and techniques for synthesizing and optimizing interconnect Provides insight & intuition into layout analysis and optimization for interconnect in high speed, high complexity integrated circuits

160 pages, 1, black & white illustrations

介质类型 图书     Paperback Book   (平装胶订图书)
已发行 2010年10月29日
ISBN13 9781441938442
出版商 Springer-Verlag New York Inc.
页数 160
商品尺寸 156 × 234 × 8 mm   ·   235 g
语言 英语  

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