Atomic Layer Deposition for Semiconductors - - 图书 - Springer-Verlag New York Inc. - 9781489979438 - 2016年8月23日
如封面与标题不符，以标题为准

Atomic Layer Deposition for Semiconductors Softcover reprint of the original 1st ed. 2014 edition

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This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, moving from the basic chemistry of ALD and modeling of ALD processes to sections on ALD for memories, logic devices, and machines. The section on ALD for logic devices covers both front-end of the line processes and back-end of the line processes.

273 pages, 89 black & white illustrations, 81 colour illustrations, 3 black & white tables, 1 colour

介质类型 图书     Paperback Book   (平装胶订图书)
已发行 2016年8月23日
ISBN13 9781489979438
出版商 Springer-Verlag New York Inc.
页数 263
商品尺寸 234 × 155 × 18 mm   ·   482 g
语言 英语  
编辑 Hwang, Cheol Seong

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